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云浮三氧化鋁靶材


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  • 廣州陶瓷靶材廠家

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  • 氧化錫銻靶材

    氧化錫銻靶材:光電領域的隱形冠軍 在真空鍍膜領域,氧化錫銻靶材憑借其獨特的性能優勢,成為制備透明導電薄膜的核心材料。這種陶瓷靶材由氧化錫和氧化銻按特定比例燒結而成,在可見光區透光率超過85%,電阻率可低至10^-4Ω·cm量級,完美平衡了透明性與導電性這對天然矛盾體。 氧化錫銻薄膜的制備主要采用磁控濺射工藝。當高能粒子轟擊靶材表面時,錫、銻、氧原子以分子形式濺射到基板上,通過精確控制濺射功率、氣

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