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廣州陶瓷靶材廠家作為生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司,我們的公司自成立以來一直秉承著科技、質量的經營理念,專注于研發和生產陶瓷靶材及相關產品,助力客戶在薄膜制備技術領域獲得好的應用效果。陶瓷靶材作為一類特殊材料,由高純度的陶瓷構成,具有高熔點、良好的化學穩定性和特殊的光學特性。相較于傳統的金屬靶材,陶瓷靶材具備多的功能性和特殊性能,能夠滿足不同應用需求,獲得越來
硅鈦合金靶材:高科技領域的隱形冠軍 在真空鍍膜領域,硅鈦合金靶材正成為改變游戲規則的關鍵材料。這種由硅、鈦兩種金屬元素按特定比例合成的復合材料,憑借其獨特的性能組合,正在半導體、光伏、顯示面板等行業掀起一場技術革命。 硅鈦合金靶材的核心優勢在于它的平衡性能。鈦元素賦予材料優異的機械強度和耐腐蝕性,而硅元素的加入顯著提高了高溫穩定性。這種組合使鍍膜層能夠承受嚴苛的工作環境,在800℃高溫下仍能保持
鎳鈦合金靶材:醫療與航空領域的新寵 鎳鈦合金靶材因其獨特的性能,在醫療植入物和航空航天領域備受關注。這種合金由鎳和鈦按特定比例組成,通過真空熔煉、熱軋、冷軋等多道工序制成靶材,最終用于物理氣相沉積(PVD)或磁控濺射鍍膜工藝。 鎳鈦合金最顯著的特點是形狀記憶效應和超彈性。在低溫下變形后,加熱至臨界溫度能恢復原始形狀,這使得它在血管支架、骨科植入物等醫療器械中極具優勢。同時,它的耐腐蝕性和生物相容
氧化錫銻靶材:光電領域的隱形冠軍 在真空鍍膜領域,氧化錫銻靶材憑借其獨特的性能優勢,成為制備透明導電薄膜的核心材料。這種陶瓷靶材由氧化錫和氧化銻按特定比例燒結而成,在可見光區透光率超過85%,電阻率可低至10^-4Ω·cm量級,完美平衡了透明性與導電性這對天然矛盾體。 氧化錫銻薄膜的制備主要采用磁控濺射工藝。當高能粒子轟擊靶材表面時,錫、銻、氧原子以分子形式濺射到基板上,通過精確控制濺射功率、氣
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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